MPCVD應用領域
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微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)的諧振腔內沒有內部電極,可以避免電極放電所產生的污染,它的運行氣壓范圍比較寬,所產生等離子體密度高、區域大,穩定度高,且不與真空器壁接觸,從而避免了器壁對薄膜的污染……

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微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)的諧振腔內沒有內部電極,可以避免電極放電所產生的污染,它的運行氣壓范圍比較寬,所產生等離子體密度高、區域大,穩定度高,且不與真空器壁接觸,從而避免了器壁對薄膜的污染。因此微波等離子體化學氣相沉積法(MPCVD)以其獨特的優點成為目前最有發展前景的高質量金剛石薄膜沉積方法之一。


在以往,人們習慣性用熟知的磁控管功率源來應用于MPCVD系統中,隨著技術的快速發展,用固態射頻微波功率源替代磁控管方案在MPCVD系統中的應用已經成為了一個新趨勢。



固態微波源在MPCVD系統中的應用框架圖示(以6kW為例)

 



固態微波源在MPCVD系統中的應用優勢分析


在MPCVD裝置中,微波頻率、腔體尺寸、樣品基臺等各種因數都會導致腔體內的電場分布和等離子狀態和分布,以下是來自太原理工大學某學士的數據分析:

圖片1


(圖一)


在MPCVD裝置中,即便只有10MHz的頻率變化,也會引起腔體內電場和等離子強度以及分布狀態的強烈變化


圖片2

圖(二)

在MPCVD裝置中,諧振腔的尺寸引起腔體內電場和等離子強度以及分布狀態的強烈變化

圖片3


(圖三)

在MPCVD裝置中,樣品基臺的位置引起腔體內電場和等離子強度以及分布狀態的強烈變化




而沃特塞恩固態功率源因其頻率、相位可控、我們可以通過調整微波源的頻率和相位來彌補腔體尺寸、樣品基臺等各種變化導致的電場分布和等離子狀態的分布和改變。

采用沃特塞恩固態功率源的MPCVD裝置,不會因為更換功率源導致裝置的工作狀態發生變化,而需要重新調試和設置裝置的工作參數。


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